Pengelasan GTAW
Gas Tungsten Arc-Welding (GTAW)
atau di sebut juga TIG (Tungsten Inert Gas) merupakan proses pengelasan dengan
nyala listrik berasal dari elektroda tungsten (non consumable). Peleburan logam
terjadi karena panas yang dihasilkan oleh busur listrik antara logam induk
dengan elektroda, yang mana busur dan logam cair di lindungi oleh gas
pelindung. GTAW memiliki hasil las yang berkualitas tinggi dan biaya peralatan
yang rendah sehingga banyak digunakan di industri. Peralatan yang digunakan
dalam pengelasan tungsten adalah :
1.
Mesin las AC/DC
Mesin las
AC/DC merupakan mesin las pembangkit arus AC/DC yang digunakan di dalam
pengelasan GTAW.
2.
Tabung gas
lindung
Tabung gas
lindung adalah tabung tempat penyimpanan gas lindung yang digunakan dalam
mengelas tungsten.
3.
Regulator gas
lindung
Regulator
gas lindung adalah pengatur tekanan gas yang akan digunakan dalam pengelasan.
Pada regulator ini biasanya ditunjukkan tekanan kerja dan tekanan gas di dalam
tabung.
4.
Flowmeter untuk
gas
Flowmeter
digunakan untuk menunjukan besaran aliran gas lindung yang di pakai dalam
proses pengelasan.
5.
Selang gas dan
perlengkapan pengikatnya
Selang gas
dan perlengkapannya berfungsi sebagai penghubung gas dari tabung menuju
pembakar las. Sedangkan perangkat pengikat berfungsi mengikat selang dari
tabung menuju mesin las dan dari mesin las menuju pembakar las.
6.
Kabel elektroda
dan selang gas
Kabel
elektroda dan selang gas berfungsi menghantarkan arus dari mesin las menuju
stang las, begitu juga aliran gas dari mesin las menuju stang las.
7.
Welding torch
Welding
torch atau stang las berfungsi untuk menyatukan sistem las yang berupa
penyalaan bususr dan perlindungan gas lindung selama dilakukan proses
pengelasan.
8.
Elektroda
tungsten
Elektroda
tungsten berfungsi sebagai pembangkit busur nyala selama dilakukan pengelasan.
Elektroda ini tidak berfungsi sebagai bahan tambah.
9.
Kawat las
Kawat las
berfungsi sebagai bahan tambah. Tambahan kawat las dilakukan ketika bahan dasar
yang dipanasi dengan busur tungsten sudah mendekati cair.
Dalam proses pengelasan GTAW
di lengkapi dengan gas pelindung, yang mana berfungsi untuk melindungi logam
las dari kontaminasi udara luar. Gas pelindung yang di gunakan adalah gas mulia
yang sulit sekali bereaksi dengan udara luar, antara lain :
1.
Argon
Argon
adalah gas mulia yang stabil dan sulit bereaksi dengan
unsur lainnya. Argon sebagai gas pelindung membuat busur lebih stabil dan
percikan berkurang. Argon lebih mudah mengion atau terionisasi dibandingkan
dengan Helium, sehingga Argon dapat diangggap sebagai konduktor listrik.
Konduktivitas panas Argon rendah,
menyebabkan pengaliran panas melalui busur lambat. Oleh sebab itu sangat baik untuk pengelasan logam yang tipis.
2.
Helium
Helium
merupakan gas mulia yang tidak mudah bereaksi dengan unsur lainnya.
Kondukivitas panas Helium lebih tinggi dari Argon, sehingga pemindahan panas
melalui busur lebih besar, akibatnya Helium lebih cocok untuk proses pengelasan
logam yang lebih tebal, dan logam yang mempunyai konduktivitas panas yang
tinggi seperti : aluminium, tembaga, magnesium, dll. Tegangan busur lebih
tinggi jika menggunakan Helium dan banyak terjadi percikan serta penetrasi yang
dihasilkan dangkal.
3.
Campuran Argon
dan Helium
Campuran
antara Argon dan Helium berguna ketika diinginkan beberapa keseimbangan dari
karakteristiknya
Sumber listrik GTAW
dapat menggunakan generator AC maupun DC. Ciri khas generator jenis AC yaitu
merupakan kombinasi antara cleaning dengan penetrasi medium dan mencegah elektrode tungsten overheating. Penggunaan arus DC
dibedakan menjadi dua yaitu polaritas lurus (Direct Current Straight Polarity) dan
polaritas balik (Direct
Current Reserve Polarity). DCSP,
dua pertiga konsentrasi panas pada benda kerja, sedangkan untuk DCRP, dua
pertiga konsentrasi panas pada elektrode tungsten. Untuk AC, konsentrasi panas
masing-masing setengah pada elektrode dan benda kerja. Konsentrasi panas
ditimbulkan adanya benturan elektron pada benda kerja dan elektrode tungsten.
DCSP menghasilkan penetrasi yang lebih dalam dibandingkan dengan AC tetapi
tidak mengalami oxide cleaning.
DCRP mengalami oxide cleaning,
tetapi penetrasi yang dihasilkan lebih dangkal daripada AC.
@septianws
Tidak ada komentar:
Posting Komentar